发明专利名称:一种甘宝素替代模板分子印迹聚合物及其制备方法和应用
作者:|发布时间:2021-03-22

发明人:孙晓丽; 徐佳蒙; 唐林超; 杨罗星; 王慕华http://epub.sipo.gov.cn/images/jts.bmp

专利号:ZL201711190260X

专利申请日:2017.11.24

授权公告日:2020.02.07

专利权人:丽水学院

摘要:本发明公开了一种甘宝素替代模板分子印迹聚合物及其制备方法和应用。所述制备方法如下:将替代模板分子、交联剂、功能单体和引发剂溶于致孔溶剂中,制备成预聚合溶液,于55‑75℃下聚合反应24‑48h。聚合反应生成的白色块状聚合物经过研磨、筛分、沉降后,得到粒径为30‑60μm的聚合物白色颗粒。将得到的聚合物颗粒依次采用甲醇/乙酸和甲醇为萃取溶剂进行索氏提取,除去替代模板分子和未反应物质,即得到替代模板分子印迹聚合物。本发明提供的替代模板分子印迹聚合物可用作固相萃取材料,应用于环境样品、食品及个人护理品中甘宝素的富集和纯化,具有选择性强、吸附容量大和无模板泄露的优点,对人类健康及环境监测具有重要意义。


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